2011年，瑞士洛桑联邦工学院物理学家发现用一种辉钼(MoS2)单分子层材料制造半导体，比传统硅材料和富勒烯更有优势。工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理如下 ①12MoS2+7O2 2MoO3+4SO2 ②2MoO3+2NH3·H2O=(

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1. (2019高一下·天长期末) 2011年，瑞士洛桑联邦工学院物理学家发现用一种辉钼(MoS₂)单分子层材料制造半导体，比传统硅材料和富勒烯更有优势。工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理如下
①12MoS₂+7O₂ $\text{[math]}$ 2MoO₃+4SO₂

②2MoO₃+2NH₃_·H₂O=(NH₄)₂MoO₄+H₂O

③(NH₄)₂MoO₄+2HCl=H₂MoO₄↓+2NH₄Cl

④H₂MoO₄=MoO₃+H₂O

⑤用还原剂将MoO₃还原成金属钼

下列说法正确的是（）

A . MoS₂煅烧产生的尾气可直接排到空气中 B . MoO₃不溶于氢氧化钠溶液 C . H₂MoO₄是一种强酸 D . 利用H₂、CO和Al分别还原等量的MoO₃ ，消耗还原剂的物质的量之比为3:3:2

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