1. (2015·和顺模拟) 半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl₃）中一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl₂模拟工业生产制取PCl₃ ， 装置如下图所示：（部分夹持装置略去）

已知黄磷与少量Cl₂反应生成PCl₃ ， 与过量Cl₂反应生成PCl₅和HCl，遇O₂会生成POCl₃ ， POCl₃溶于PCl₃ ， PCl₃、POCl₃的熔沸点见下表：

物质	熔点/℃	沸点/℃
PCl3	﹣112	75.5
PCl5	2	105.3

请回答下列问题

1. （1） 装置中制氯气的离子方程式为
3. （2） B中的试剂是，E中次冷水的作用是，F中碱石灰的作用是
5. （3） 实验时，检查装置气密性后，先打开K₃通入干燥的CO₂ ， 再迅速加入黄磷．通干燥CO₂的作用是通过控制K₁、K₂能除去A、B装置中的空气，具体的方法是
7. （4） 粗产品含有POCl₃、PCl₃等，加入黄磷加热除去PCl₅ ， 通过（填实验操作的名称），即可得到纯净的PCl₃
9. （5） 通过下面方法可测定产品中PCl₃的质量分数．

   ①迅速称取100g产品，加水反应后配成250mL溶液；

   ②取以上溶液25.0mL，向其中加入0.1mol 10mL碘水，充分反应；③向②所得溶液中加入几滴淀粉溶液，用0.1mol/L的Na₂S₂O₃溶液滴定，滴定终点现象是

   ④重复②、③操作，平均消耗Na₂S₂O₃溶液8.40mL．已知H₃PO₃+H₂O+I₂=H₃PO₄+2HI，I₂+2Na₂S₂O₃=2NaI+Na₂SO₄根据以上数据，该产品中PC₃的质量分数是．