1. (2020·青浦模拟) 光刻胶（I）是半导体制造的一种重要材料，其中一种合成路线如下，完成下列填空。

已知：

1. （1） A的电子式，E的结构简式；
3. （2） C→D反应的试剂和条件为，F→G的反应类型；
5. （3） D+H→I的化学反应方程式；
7. （4） H的芳香类同分异构体中，可以发生水解反应和银镜反应的有种；
9. （5） 是重要的工业加工助剂，写出以乙烯和乙醛为原料制备 的合成路线。（其它无机试剂任选），（合成路线常用的表达方式为：A B 目标产物）