1. (2020高二下·奉化期中) 超纯氢氟酸主要用作芯片材料清洗和蚀刻。回答下列问题：

1. （1） 氢氟酸可保存在聚四氟乙烯容器中，聚四氟乙烯的结构简式为。
3. （2） 工业氢氟酸生产超纯氢氟酸时，需经除杂质(AsF₃)、气化、洗涤等步骤。

   ①除去AsF₃的反应为4AsF₃＋4KMnO₄＝4MnF₂＋2As₂O₅＋4KF＋3O₂↑，该反应的氧化产物为。

   ②CoF₃可与H₂O反应生成HF，该反应的化学方程式为(CoF₃还原为CoF₂)

   ③在无水氟化氢汽化时，可向发生装置中掺入含有F₂ ， NF₃和OF₂中的一种或多种的含氟气体，以氧化杂质。NF₃的电子式为；OF₂中氧元素的化合价为，OF₂可由F₂与稀NaOH溶液反应制取，该反应的离子方程式为。