利用氢氟酸（HF）蚀刻玻璃，发生的化学方程式为：SiO2 +4HF =X↑+2H2O，物质X为（）

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1. (2020九上·东城期末) 利用氢氟酸（HF）蚀刻玻璃，发生的化学方程式为：SiO₂+4HF =X↑+2H₂O，物质X为（）

A . SiO B . SiF₄ C . SiF D . F₂

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