1. (2020高一下·桃江期末) 卤块的主要成分是MgCl₂ ， 此外还含有Fe³⁺、Fe²⁺、Mn²⁺等离子。以它为原料制取轻质氧化镁的工艺流程如图：

已知在此温度下，相关金属离子形成氢氧化物沉淀的pH如表：

物质	开始沉淀	沉淀完全
Fe(OH)3	2.7	3.7
Fe(OH)2	7.6	9.6
Mn(OH)2	8.3	9.8
Mg(OH)2	9.9	11.1

请回答下列问题：

1. （1） 溶液Ⅰ中加H₂O₂反应的离子方程式为。
3. （2） 步骤Ⅰ是在溶液Ⅱ中加入NaOH溶液调节其pH＝9.8，其目的是。
5. （3） 沉淀物Ⅰ的主要成分是(填对应的化学式)。
7. （4） 沉淀物Ⅱ加热煮沸的化学方程式为。