1. (2021高二下·潍坊期中) 为打破国外芯片垄断，我国正努力发展相关产业。在芯片光刻前需涂抹一层光刻胶，下图是制备某酯类光刻胶的合成路线。

已知：①酚羟基与羧基难发生酯化反应

②R₁C≡CH+R₂COOH→

③R₁CHO+R₂CH（COOH）₂

回答下列问题：

1. （1） 实验室制取A的化学方程式为，为减少副反应发生应采取的措施是。
3. （2） B→C的反应类型是。
5. （3） F的结构简式为，C中官能团的名称为。
7. （4） 设计以苯酚和甲醛为原料制备 的合成路线（其它试剂任选）。