1. (2021高二下·汉中期末) 光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料，2020年12月我国自主研发的第一支光刻胺通过产品验证，打破了国外垄断。从A合成某酯类光刻胶Ⅰ的一种合成路线如图所示，其中代表的是330弱碱性环氧系阴离子交换树脂。

已知：①

②RCOCl+R′OH→RCOO R′+HCl

回答下列问题：

1. （1） A的名称是。
3. （2） D的结构简式为，H中含氧官能团的名称为。
5. （3） 反应⑥的反应类型是。
7. （4） 反应④的化学方程式为。
9. （5） G的分子式为，写出一种满足下列条件G的同分异构体的结构简式。

   ①含碳碳双键

   ②能发生银镜反应

   ③核磁共振氢谱的峰面积之比为6：1：1