1. (2020高三上·通州期末) 高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。图中是高聚物H的一种合成路线：

已知：①；

②由B生成C的反应属于加聚反应；③D属于高分子化合物。

请回答下列问题：

1. （1） B中含氧官能团的名称是；
3. （2） 由A生成B和Y生成E的反应类型分别为、；
5. （3） 由F生成G的化学方程式为；
7. （4） H的结构简式为；
9. （5） 只有一种官能团的芳香化合物W是G的同分异构体，W能发生银镜反应，其中核磁共振氢谱为四组峰，峰面积比为3：2：2：1的结构简式为；
11. （6） 参照上述合成路线，设计由对二甲苯和乙酸为原料制备的合成路线(无机试剂任选)