1. (2021高二下·丹东期末) 高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。图中是高聚物H的一种合成路线：

已知：①；

②由B生成C的反应属于加聚反应；

③D属于高分子化合物。

请回答下列问题：

1. （1） A的化学名称；由A生成B的反应类型为；
3. （2） C的链节为；由X生成Y需要的反应条件为；
5. （3） H中含氧官能团的名称是；
7. （4） 由D和G生成H的化学方程式为；
9. （5） 只有一种官能团的芳香化合物W是G的同分异构体，W能发生银镜反应，符合上述要求的W所有结构(不包括立体异构)共有种；其中核磁共振氢谱为四组峰，峰面积比为3∶2∶2∶1的结构简式为(写出一种即可)。