• 1. (2023·济南模拟) 中国芯片蚀刻技术国际领先。用 NF₃进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物，该反应微观示意图如下。下列说法中，错误的是

  

  A . 上述四种物质均由分子构成 B . 反应前后各元素的化合价均没有改变 C . 空气中物质丁的质量分数为 78% D . 参加反应的甲和乙微粒数之比为4∶3