1. (2022高二下·杭州期中) 如图甲所示，一个竖直圆柱体，圆柱体的高为H，底面半径为R，O和是圆柱体上下两个圆面的圆心。圆柱体所在的空间内存在竖直向下的匀强磁场。后侧矩形面abcd有一个粒子面发射源，其中ab与cd边的长度均为1.6R（过O作ab的垂线与ab的交点恰为ab的中点），整个面都能向圆柱体发射的某种正粒子，其比荷为K、粒子的速度大小均为v₀且速度方向与矩形面abcd垂直。在圆柱体的右侧到OO'的距离为2.6R处放置一个足够大的金属板，整个金属板内侧有和金属板垂直的匀强电场，匀强电场局限在离金属板的距离为R的范围内。如图乙是图甲的俯视图，图中ab边射出的粒子经圆形磁场偏转后都从圆上的某一点D（未画出）射出，从粒子源a处射出的粒子经过D点射出磁场后，经真空室再经匀强电场最后打到金属板上，且粒子垂直于金属板的分速度大小为0.8v₀ ， 不计粒子重力，整个装置放在真空室中，sin53°= 0.8，cos53°=0.6.求：

1. （1） 圆形磁场的磁感应强度B的大小；
3. （2） 金属板内侧与金属板间电场的电场强度E的大小；
5. （3） 粒子源发射的粒子在金属板上的落点对应的面积。