1. (2023·黄浦模拟) 芯片制造过程需用到光刻胶，光刻胶的一种合成路线如图(部分试剂、反应条件和产物已略去)：

已知：A是苯甲醛()

I. +   (R₁ ， R₂为烃基或氢)

II. +R₂OH +HCl(R₁ ， R₂为烃基)

1. （1） B分子中所含官能团的名称为；由F到G的反应类型为。
3. （2） 乙炔和羧酸X发生加成反应生成E，E中不同环境的氢原子个数比为3∶2∶1，E能发生水解反应，则E加聚后产物F的结构简式为。
5. （3） D和G反应生成光刻胶的化学方程式为。
7. （4） C的一种同分异构体满足下列条件：

   ①既能发生银镜反应，又能发生水解反应；

   ②苯环上的一氯取代产物只有两种。

   写出该同分异构体的结构简式：。

9. （5） 根据已有知识并结合本题信息，写出以CH₃CHO为原料制备CH₃COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用，合成路线流程图示例见本题题干)。