• 1. (2023·舟山模拟) 中国芯片蚀刻技术国 际领先。用NF₃蚀刻硅芯片，产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何 残留物。该反应微观过程如图所示，下列说法正确的是

  

  A . 物质丙由硅原子和氟原子直接构成 B . 物质丁在空气中含量很少 C . 该反应中，分子种类没有变化 D . 反应生成的丙和丁分子个数之比为3：2