当前位置: 初中物理 / 多选题
  • 1. (2023·潍坊) 2023年2月哈工大宣布突破EUV光刻机关键技术,光刻技术是利用缩图透镜将绘制在掩膜上的电路图通过光源投射到涂有光刻胶的硅片上,从而制造出集成电路的方法,其工作原理如图所示。若图示中掩膜上的电路图恰好在硅片上成清晰缩小的像,下列说法正确的是(    )

      

    A . 掩膜上的电路图在硅片上成实像 B . 掩膜位于缩图透镜的二倍焦距以外 C . 硅片位于缩图透镜的一倍焦距以内 D . 要减小硅片上的像,需将掩膜向下移动

微信扫码预览、分享更方便