• 1. (2023高三上·深圳月考) 三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃＋5H₂O=2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关该反应的说法错误的是（  ）

  A . NF₃既表现了氧化性又表现了还原性 B . HF是还原产物 C . 还原剂和氧化剂的物质的量之比是1∶2 D . 3 mol NF₃参加反应转移电子2 mol