中国芯片蚀刻技术国际领先。用NF3蚀刻硅芯片，产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观过程如图所示，下列说法正确的是（）

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1. (2023九上·连城月考) 中国芯片蚀刻技术国际领先。用NF₃蚀刻硅芯片，产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观过程如图所示，下列说法正确的是（）

A . 反应生成的丙和丁分子数之比为3：2 B . 反应前后各元素的化合价均不变 C . 反应过程中原子、分子种类没有变化 D . 物质丁的化学性质活泼

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