1. (2024高三下·广东月考) 芯片制作工艺是人类科技的结晶，而制造芯片的光刻机，是通过许多国家的顶级公司通力合作制造的精密的大型设备．如图所示，芯片制作工艺中有一种粒子分析器，它由加速电场、静电分析器和磁分析器组成，加速电场的电压为U ， 静电分析器通道中心线的半径为R ， 通道内均匀辐射电场在中心线处的电场强度大小为E ， 磁分析器有范围足够大的有界匀强磁场，磁感应强度大小为B、方向垂直纸面向外．氕、氘、氚核以不同的速度进入加速电场，能沿静电分析器中心线运动的粒子会从小孔P进入磁分析器，最终打到胶片Q上．已知氕、氘，氚核所带的电荷量均为e ， 质量分别为m、2m ， 3m ， 不计粒子间的相互作用及粒子受到的重力，下列说法正确的是（ ）

A . 能进入磁分析器的粒子的初动能相等 B . 氕，氘核打到胶片Q上的间距为 C . 氘，氚核打到胶片Q上的间距为 D . 氕，氚核打到胶片Q上的间距为