• 1. (2024九上·惠城期末) 中国芯片蚀刻技术国际领先。NF₃用于进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应的微观示意图如下，下列说法正确的是

  

  A . 该反应前后原子数目发生改变 B . 该反应前后元素的种类不变 C . 空气中物质丁的质量分数为78% D . 反应后生成的丙和丁微粒数之比为1：1