• 1. (2023·龙湖模拟) 中国芯片蚀刻技术国际领先。用 NF₃蚀刻硅芯片，产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观过程如图所示，下列说法不正确的是（ ）

  

  A . 反应前后原子种类、数目和质量不变 B . 生成的丙和丁分子个数之比为3：4 C . 物质丁的化学性质不活泼 D . 该反应为置换反应