1. (2024七下·吴兴期中) 我国科研人员已经突破了制造高端芯片的5纳米光刻技术。光刻机以紫外光为信息载体，通过凸透镜将画在模板上的电路图投影到微小的半导体材料——硅晶板上，利用曝光反应进行缩刻，原理如图所示。

1. （1） 缩刻成像，其原理与(填“照相机”“投影仪”或“放大镜”)相同。
3. （2） 要使硅晶板上刻画的电路图更小（凸透镜位置不能改变），应怎样操作？。