1. (2024·杭州模拟) 刻蚀技术是硅芯片制造的关键。用NF₃刻蚀硅芯片，产物均为气体，在刻蚀表面不留任何残留物，是一种较为先进的刻蚀技术，如图为该反应的微观过程示意图。回答下列问题：

1. （1）  刻蚀产物SiF₄中Si的化合价为。
3. （2） 反应生成的丙和丁微粒数之比为。
5. （3） 用NF₃刻蚀硅芯片的反应属于基本反应中的反应。