中国芯片蚀刻技术国际领先。进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如下，下列说法错误的是（）。

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1. (2024·吉安模拟) 中国芯片蚀刻技术国际领先。 $\text{[math]}$ 进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如下，下列说法错误的是（）。

A . 反应生成的丙和丁微粒数之比为 $\text{[math]}$ B . 反应中甲和乙的质量比为 $\text{[math]}$ C . 空气中物质丁的体积分数为78％ D . 该反应属于置换反应

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