1. (2024·南山模拟) 光刻技术原理如图：当光源发出强紫外线光时，调节镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离，使光通过二者后，恰好在硅片上成清晰的像，从而实现纳米级集成电路的“雕刻”。缩图透镜属于的类型可用于矫正（选填“近”或“远”）视眼，为了使硅片上所成的像更小一些，应将掩膜版缩图透镜的同时，硅片缩图透镜。（以上两空均选填“靠近”或“远离”）