• 1. (2024九上·洪山期末) 中国芯片蚀刻技术国际领先。NF₃进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如图，下列说法正确的是

  

  A . 物质丁由2个原子构成 B . 物质乙中硅元素的化合价为零 C . 物质丁在空气中的质量分数为78% D . 参加反应的甲和乙微粒数之比为1：1