1. (2024高一上·盐田期末) 可用于电子工业生产软磁铁氧体，用作电子计算机中存储信息的磁芯、磁盘等。工业上以软锰矿(主要成分是 ， 还含有少量的、、)为原料生产的工艺流程如下：

25℃时，相关金属离子形成氢氧化物沉淀的pH范围如下：

金属离子
开始沉淀的pH	1.5	6.3	3.4	8.1
沉淀完全的pH	2.8	8.3	4.7	10.1

回答下列问题：

1. （1） “酸浸、还原”时，软锰矿的成分中(填物质名称)没有发生反应。
3. （2） “酸浸、还原”后，溶液中含有的金属阳离子有、(填离子符号)，铁屑、与反应的离子方程式为。
5. （3） “调节pH”时，加入溶液的目的是(用离子方程式表示)。
7. （4） “沉锰”时发生反应的离子方程式为。滤液2的用途是。