1. (2024九上·普陀月考) 我国最新自主研发的光刻机采用了氟化氩(ArF)准分子激光器作为光源。

1. （1） 该激光器使用氟气(F₂)和氩气(Ar)的混合气体作为工作气体，其中的元素形态均为(选填“游离态”或“化合态”)。氟元素属(选填“金属”或“非金属”)元素，氟气的式量为。
3. （2） 在高能电子束照射的条件下，上述混合气体反应生成氟化氩(ArF)。

   ①该反应的文字表达式为。

   ②氟化氩(ArF)中氩元素和氟元素的质量比为。

   ③该反应中没有发生变化的微粒是。

5. （3） 氟化氩(ArF)无法稳定存在，在不到百万分之一秒都不到的时间内就会消失，同时释放出波长为193nm的紫外光，作为光刻机的光源。这个过程说明物质在发生时还会伴随着能量的变化。