• 1. (2024九上·肇庆期中)  中国芯片蚀刻技术国际领先。NF₃进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如图，下列说法正确的是（  ）

  

  A . 反应前后原子数目发生改变 B . 物质丁由原子直接构成 C . 丙分子中Si、F原子个数比为1：4 D . 参加反应的甲和乙的质量之比为71：28