1. (2018九上·大埔期末) 硅是一种重要的半导体材料，应用范围广。三氯硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如图所示：

1. （1） 硅属于(选填“金属”或“非金属”)元素；
3. （2） 写出上述流程中一种氧化物的化学式：；
5. （3） 上述流程中最后一步反应的化学方程式为，该反应属于(填基本反应类型)反应；
7. （4） 如果还原SiHCl₃过程中混入O₂ ， 可能引起的后果是；
9. （5） 该流程中可以循环利用的物质的化学式是。