制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、
HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式;H2
还原SiHCl3过程中若混有O2 , 可能引起的后果是。
振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)。
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