1. (2016·深圳模拟) 锗是重要的半导体材料，应用于航空航天测控、光纤通讯等领域．一种提纯二氧化锗粗品（主要含GeO₂、As₂O₃）的工艺如下：

已知：①“碱浸”过程中的反应为：

GeO₂+2NaOH═Na₂GeO₃+H₂O

As₂O₃+2NaOH═2NaAsO₂+H₂O

②“蒸馏”过程中的反应为：Na₂GeO₃+6HCl═2NaCl+GeCl₄+3H₂O

③GeCl₄的熔点为﹣49.5℃，AsCl₃与GeCl₄的沸点分别为130.2℃、84℃．

1. （1） 锗的原子序数为32，锗在元素周期表中的位置为第周期族．
3. （2） “氧化除砷”的过程是将NaAsO₂氧化为Na₃AsO₄ ， 其反应方程式为：．
5. （3） 传统的提纯方法是将粗品直接加入盐酸中蒸馏，其缺点是．
7. （4） 工业上与蒸馏操作相关的设备有       

   A . 蒸馏釜 B . 离心萃取机 C . 冷凝塔 D . 加压过滤机
9. （5） “水解”操作时发生的化学反应方程式为，“水解”操作时保持较低温度有利于提高产率，其最可能的原因是（答一条即可）．
11. （6） 若1吨二氧化锗粗品（含杂质30%）经提纯得0.745吨的高纯二氧化锗产品，则杂质脱除率为．