1. (2020·天津模拟) 甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域，三氯氢硅（SiHCl₃）是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题：

1. （1） 工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有：

   Si(s)＋4HCl(g)=SiCl₄(g)＋2H₂(g)    ∆H＝-241kJ/mol

   SiHCl₃(g)＋HCl(g)=SiCl₄(g)＋H₂(g)    ∆H＝-31kJ/mol

   以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl₃的热化学方程式是 。

3. （2） 铝锂形成化合物LiAlH₄既是金属储氢材料又是有机合成中的常用试剂，遇水能得到无色溶液并剧烈分解释放出H₂ ， 请写出其水解反应化学方程式。LiAlH₄在化学反应中通常作(填“氧化”或“还原”)剂。工业上可用四氯化硅和氢化铝锂（LiAlH₄）制甲硅烷，反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为
5. （3） 三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl₃(g) SiH₂Cl₂(g)+SiCl₄(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤，此反应采用一定量的PAl00催化剂，在不同反应温度下测得SiHCl₃的转化率随时间的变化关系如图所示。

   

   ①353.15K时，平衡转化率为，该反应是反应（填“放热”“吸热”）。

   ②323.15K时，要缩短反应达到平衡的时间，可采取的最佳措施是。

7. （4） 比较a、b处反应速率的大小：V_a V_b （填“＞”“＜”或“＝”）。已知反应速率V_正=K₁x²_SiHCl3 ， V_逆=K₂x_SiH2Cl2x_SiCl4 ， K₁ ， K₂分别是正、逆反应的速率常数，与反应温度有关，x为物质的量分数，则在353.15K时K₁/K₂ ＝（保留3位小数）。
9. （5） 硅元素最高价氧化物对应的水化物是H₂SiO₃ ， 室温下，0.1mol/L的硅酸钠溶液和0.1mol/L的碳酸钠溶液，碱性更强的是 ，其原因是。已知：H₂SiO₃ ：Ka₁=2.0×10^-10、Ka₂=2.0×10^-12、H₂CO₃ ：Ka₁=4.3×10^-7 ， Ka₂=5.6×10^-11