1. (2021·温州模拟) 信息时代离不开芯片，为制作高性能芯片，所需要的是高纯度硅的制备及高精度光刻机的研发。

1. （1） 工业上制备高纯度硅的其中一个步骤的化学方程式为：SiHCl₃+H₂ Si+3X，则X的化学式为。
3. （2） 如图为光刻机的工作原理图，若想晶圆上所成的像变小，则需将光源和掩膜向移动。