• 1. (2021高二下·高邮月考) 光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。一种新型的光刻胶(高聚物)可由芳香化合物a、化合物b (b 中氢的化学环境均相同)为原料制备，其合成路线如下：

  已知： a、c均能与NaHCO₃反应放出CO₂。

  下列说法错误的是（   ）

  A . b的结构简式为CH₃COCH₃ B . c发生消去反应时的产物只有1种 C . d、e均能发生水解反应 D . 反应③为加成聚合反应