1. (2020·包头模拟) 光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，其合成路线如下(部分试剂和产物已略去)：

已知：I. + +H₂O(R₁ ， R₂为烃基或氢)

II. +R₂OH +HCl(R₁ ， R₂为烃基)

1. （1） A的结构笱式，B中所含官能团的名称为。
3. （2） 乙炔和羧酸X发生加成反应生成E，E能发生水解反应，则E的结构简式为。
5. （3） B→C所需的试剂Y 和反应条件分别为 、；由F到G反应类型为。
7. （4） D和G反应生成光刻胶的化学方程式为。
9. （5） T是C的同分异构体 T具有下列性质或特征：①能发生银镜反应和水解反应；②分子结构中除苯环外无其他环。则符合条件的T的结构有种，其中核磁共振氢谱为 5 组峰，且峰面积比为1：1：2： 2所有的结构简式为 。