1. (2021高二上·浙江期中) 某项目学习小组设计利用废铁屑制备FeCl₃晶体、 配制FeCl₃溶波腐蚀电路板铜箔并处理和回收废液，具体流程如图：

1. （1） 用足量FeCl₃溶液蚀刻铜箔离子方程式。
3. （2） 腐蚀铜电路板的FeCl₃溶液所需浓度通常要在0.50mol/L以上，配制的FeCl₃蚀刻液需进行浓度标定：

   a.配制：称取三氯化铁晶体(FeCl₃•6H₂O)155g，加入适量稀盐酸溶液(盐酸：水=1：40)使之溶解，再以此稀盐酸定容至1000mL，摇匀。

   b.浓度标定：用酸式滴定管量取20.00mL试样至碘量瓶中，加入过量碘化钾，盖紧瓶盖充分摇匀，水封静置30分钟；加入数滴淀粉溶液作为指示剂，用0.4000mol/L的Na₂S₂O₃溶液进行滴定，(I₂+2=2I^-+)重复实验3次，平均消耗Na₂S₂O₃溶液28.00mL。

   ①配制三氯化铁溶液时用稀盐酸溶解的原因。

   ②滴定到终点的现象是：。进行滴定的操作错误的是：。

   A．量取20.00mL待测液前润洗锥形瓶

   B．滴定时要适当控制滴定速度

   C．滴定时应一直观察滴定管中溶液体积的变化

   D．数次平行滴定时，须重新装液并调节液面至“0”刻度或“0”刻度以下

   ③根据以上数据，计算三氯化铁溶液的浓度。

5. （3） 滤液中加入NaHCO₃的步骤，由于NaHCO₃部分水解生成沉淀B和CO₂气体，沉淀B溶于盐酸时也有CO₂气体生成，沉淀B可能的化学式为。