在半导体工艺里经常需要测定金属薄膜厚度，目前采用的方式是通过测定电阻而间接测得薄膜厚度，查询资料获知构成该薄膜金属材料的电阻率，取一块厚度均匀、边长为L的正方形该金属薄膜，在薄膜两端施加恒定电压。通过薄膜的电流方向如图所

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1. (2023高二上·扬州期中) 在半导体工艺里经常需要测定金属薄膜厚度，目前采用的方式是通过测定电阻而间接测得薄膜厚度，查询资料获知构成该薄膜金属材料的电阻率 $\text{[math]}$ ，取一块厚度均匀、边长为L的正方形该金属薄膜，在薄膜两端施加恒定电压 $\text{[math]}$ 。通过薄膜的电流方向如图所示，测定出流过薄膜的电流I，即可推导出薄膜厚度d，则（　　）

A . 电流I越大，则薄膜厚度d越小 B . 电流I越大，则薄膜厚度d越大 C . 正方形边长L越大，所测定的电阻值越大 D . 正方形边长L越小，所测定的电阻值越小

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