NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，在空气中性质稳定。其中N—F键能为283 kJ·mol ，测得断裂氮气、氟气中的化学键所需的能量如图：下列说法错误的是（）

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1. (2024高二上·合肥期末) NF₃是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，在空气中性质稳定。其中N—F键能为283 kJ·mol $\text{[math]}$ ，测得断裂氮气、氟气中的化学键所需的能量如图：
下列说法错误的是（）

A . 相同条件下，N₂化学性质比F₂更稳定 B . 氮气和氟气的能量总和比NF₃低 C . N₂（g）+3F₂（g）⇌2NF₃（g） ∆H=-287.6kJ·mol^-1 D . NF₃在大气中性质比较稳定，不易发生化学反应

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安徽省合肥市六校联盟2023-2024学年高二上学期期末联考化学试卷