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  • 1. (2024高三下·开平模拟) 在芯片领域,技术人员往往通过离子注入方式来优化半导体。其中控制离子流运动时,采用了如图所示的控制装置,在一个边长为L的正方形ABCD的空间里,沿对角线AC将它分成Ⅰ、Ⅱ两个区域,其中Ⅰ区域有垂直于纸面的匀强磁场,在Ⅱ区域内有平行于DC且由C指向D的匀强电场。一正离子生成器不断有正离子生成,所有正离子从A点沿AB方向以v的速度射入Ⅰ区域,然后这些正离子从对角线AC上F点(图中未画出)进入Ⅱ区域,其中 , 最后这些正离子恰好D点进入被优化的半导体。已知离子流的正离子带电量均为e,质量为m,不考虑离子的重力以及离子间的相互作用力。求:

    (1)Ⅰ区域磁感应强度B的大小和方向;

    (2)Ⅱ区域电场强度E的大小;

    (3)正离子从A点运动到D点所用时间t。

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