无
*注意事项:
① ② ③④
生成这四种有机物的反应类型依次为:( )
H2O内的O-H、水分子间的范德华力和氢键,从强到弱依次为,H+可与H2O形成H3O+ , H3O+中O采用杂化,H3O+的空间构型为。H3O+中H-O-H键角比H2O中的,原因是。
GaF3
GaCl3
GaBr3
熔点/℃
>1000
77.75
122.3
GaF3熔点比GaCl3熔点高很多的原因是。
已知:i.RCHO+R′CH2NO2+H2O(R、R′表示烃基或氢)
ii.
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