• 1. (2021·青浦模拟) 光刻胶是光刻机制造芯片必不可少的重要材料。一种光刻胶是由降冰片烯 与马来酸酐 共同加成聚合(共聚)而成。下列说法错误的是（   ）

  A . 降冰片烯分子式为C₇H₁₀ ， 其分子本身可以发生加聚反应 B . 该光刻胶的结构简式可能为： C . 1 mol马来酸酐，最多消耗1 mol NaOH D . 光刻胶合成过程中可能会出现链节：