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  • 1. (2024九下·道县期中)  我国自主研发的28nm浸没式光刻机的成功问世,标志着我国在光刻机领域迈出了坚实的一步,已知28nm为0.000 000 028米,数据0.000 000 028用科学记数法表示为( )

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